História

History

Fuji Silysia Chemical, Ltd.
1931 Iniciou a fabricação e venda de silicato de sódio, sob o nome da empresa Takahashi Water Glass em Osaka – Japão.
1951 Fundada a empresa Fuji Sodium Silicate Ltd. Além de fabricar e vender silicatos de sódio, iniciou a fabricação e venda de sílicas géis para atender o mercado japonês.
1957 Fundada a Kozoji Chemical Industrial Co., no local da atual sede (Planta de Kasugai) e iniciou a fabricação de sílica gel como produto principal.
1961 As empresas Fuji Sodium Silicate Ltd, Meika Industrial Co. Ltd. e a Takahashi Water Glass fundiram em uma nova empresa, a Fuji Chemical Co. Ltd. ; adquirindo posteriormente a Keiso Chemical Laboratory (sede em Nagoya).
1962 Fundada a planta para a fabricação de sílica gel em Honai-cho, Nishiuwagun, Ehimeken (atual Planta de Ehime).
1964 Iniciada uma “joint venture” com a empresa norte americana W. R. Grace & Company, assinado um acordo de tecnologia entre as empresas. Fundada a Yugen Kaisha Fuji como uma empresa de investimentos.
1965 Separação das unidades fabricantes de silicato de sódio e de sílica gel, com transferência dos direitos de negociação para a Yugen Kaisha Fuji. 50% do capital investido foi utilizado para fundar a Fuji Davison Chemical, Ltd.
1966 Iniciou-se a fabricação de sílica gel patenteada no Japão.
1973 Concluída a construção do prédio da sede em Kozoji-cho, Kasugaishi e Aichi-ken e também a abertura do escritório comercial em Tóquio.
1978 Abertura dos escritórios comerciais em Hiroshima e Fukuoka.
1979 Abertura do escritório comercial em Nagoya.
1984 Conclusão da fábrica de sílica gel micronizada em Hyuga.
1986 Conclusão da construção do Centro de Pesquisa e Tecnologia em Hyuga, a abertura do escritório comercial em Osaka e abertura da filial na Coréia do Sul.
1989 Expansão da fábrica de Hyuga.
1993 Dissolvida a “joint venture” com a W.R. Grace & Co. restabelecendo-se com Fuji Silysia Chemical Ltd., com 100% de capital japonês..
1993 Filial norte-americana fundada em Portland, Oregon – EUA.
1994 Abertura do centro técnico Nakatsugawa-Japão.
1998 Certificação ISO9002 para a linha de sílicas géis micronizadas Fuji no Japão.
1999 Mudança da filial norte-americana para o Research Triangle Park, em Durham – NC / EUA.
1999 Fundação da fábrica da Fuji Silysia Chemical USA Ltd. em Greenville, NC / EUA.
1999 Fundada na Suíça a Fuji Silysia Chemical S.A.
2000 Conclusão das instalações de produção de sílica micronizada em Greenville, NC – EUA.
2000 Abertura da SILYSIAMONT S.p.A. na Itália por meio da fusão de capitais da Fuji Silysia Chemical Ltd. e a Solvay, S.A. (50%/50%).
2001 Certificação ISO9001 para sílicas esféricas e certificação ISO9001 para sílicas micronizadas.
2002 A fábrica de Hyuga obtém a certificação ISO14001.
2002 Consolidação da operação SILYSIAMONT para fabricação de sílica micronizada.
2005 Certificação ISO14001 para a fábrica de Kasugai – Japão.
2008 Início da produção de sílicas para cromatografia na fábrica de Greenville, NC – EUA.
2012 Abertura da filial em São Paulo, Brasil para atendimento do mercado da América do Sul.
2012 Mudança do escritório de vendas em Nagoya.
2012 Participação na CHINA COAT 2012, em Guangzhou – China. Uma das maiores exposições de tinta de tintas e vernizes de impressão, e adesivos do mundo.
2012 Mudança do escritório de vendas em Tóquio.
2013 Mudança do escritório de vendas em Osaka.