| Fuji Silysia Chemical, Ltd. | |
|---|---|
| 1931 | Empezó la fabricación y venta de silicato de sodio, con el nombre de la empresa Takahashi Water Glass en Osaka – Japón. |
| 1951 | Fundada la empresa Fuji Sodium Silicate Ltd. Además de fabricar y vender silicatos de sodio, comenzó a fabricación y venta de sílice gel para atender el mercado japonés. |
| 1957 | Fundada la Kozoji Chemical Industrial Co., en el local de la actual sede (Planta de Kasugai) y comenzó la fabricación de sílice gel como producto principal. |
| 1961 | Las empresas Fuji Sodium Silicate Ltd, Meika Industrial Co. Ltd. Y la Takahashi Water Glass fundieron en una nueva empresa, la Fuji Chemical Co. Ltd. ; adquiriendo posteriormente la Keiso Chemical Laboratory (sede en Nagoya). |
| 1962 | Fundada la planta para la fabricación de sílice gel en Honai-cho, Nishiuwagun, Ehimeken (actual Planta de Ehime). |
| 1964 | Iniciada una “joint venture” con la empresa estadounidense W. R. Grace & Company, firmado pacto de tecnología entre las empresas. Fundada la Yugen Kaisha Fuji como una empresa de inversión. |
| 1965 | Separación de las unidades fabricantes de silicato de sodio y de sílice gel, con transferencia de los derechos de negociación para la Yugen Kaisha Fuji. 50% del capital invertido fue aprovechado para fundar la Fuji De lavison Chemical, Ltd. |
| 1966 | Se comenzó la fabricación de sílice gel patentada en el Japón. |
| 1973 | Concluida la construcción del edificio de la sede en Kozoji-cho, Kasugaishi y Aichi-ken y también la apertura de la oficina comercial en Tóquio. |
| 1978 | Apertura de las oficinas comerciales en Hiroshima y Fukuoka. |
| 1979 | Apertura de la oficina comercial en Nagoya. |
| 1984 | Conclusión de la fábrica de sílice gel micronizada en Hyuga. |
| 1986 | Conclusión de la construcción del Centro de Pesquisa (Centro de Estudios) y Tecnología en Hyuga, la apertura de la oficina comercial en Osaka y apertura de la filial en Corea del Sur. |
| 1989 | Expansión de la fábrica de Hyuga. |
| 1993 | Disuelto la “joint venture” con la W.R. Grace & Co. se restableciendo con Fuji Silysia Chemical Ltd., con 100% de capital japonés. |
| 1993 | Filial norte-americana fundada en Portland, Oregon – EE. UU. |
| 1994 | Apertura del centro técnico Nakatsugawa-Japón. |
| 1998 | Certificación ISO9002 para la línea de sílices geles micronizadas Fuji en Japón. |
| 1999 | Mudanza de la filial estadounidense para el Research Triangle Park, en Durham – NC / EE. UU. |
| 1999 | Fundación de la fábrica de la Fuji Silysia Chemical USA Ltd. en Greenville, NC / EE. UU. |
| 1999 | Fundada en Suiza la Fuji Silysia Chemical S.A. |
| 2000 | Conclusión de la estructura de producción de sílice micronizada en Greenville, NC – EE. UU. |
| 2000 | Apertura de la SILYSIAMONT S.p.A. en Italia por medio de la fusión de los capitales de la Fuji Silysia ChemicalLtd. y la Solvay, S.A. (50%/50%) |
| 2001 | Certificación ISO9001 para sílices esféricas y certificación ISO9001 para sílices micronizadas. |
| 2002 | La fábrica de Hyuga obtiene la certificación ISO14001. |
| 2002 | Consolidación de la operación SILYSIAMONT para fabricación de sílice micronizada. |
| 2005 | Certificación ISO14001 para la fábrica de Kasugai – Japón. |
| 2008 | Inicio de la producción de sílices para cromatografía en la fábrica de Greenville, NC – EE. UU. |
| 2012 | Apertura de la filial en São Paulo, Brasil para atención al mercado de América del Sur. |
| 2012 | Mudanza del oficio de ventas en Nagoya. |
| 2012 | Participación en la CHINA COAT 2012, en Guangzhou – China. Una de las mayores exposiciones de tintas y barnices de impresión y adhesivos del mundo. |
| 2012 | Mudanza del oficio de ventas en Tóquio. |
| 2013 | Mudanza del oficio de ventas en Osaka. |